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2019年，我國終于突破了芯片用超高純電子級磷酸和高選擇性蝕刻液的進(jìn)口替代難題，發(fā)明了高純黃磷與電子級磷酸規(guī)?；a(chǎn)關(guān)鍵技術(shù)，實現(xiàn)了高端芯片用超高純電子級磷酸和高選擇性蝕刻液的國產(chǎn)化。

高選擇性蝕刻液主要應(yīng)用在：一是半導(dǎo)體（集成電路、分立器件）、平板顯示器、LED以及太陽能電池片等制作中被大量使用來清洗表面自身氧化物和其它污染物的液體化學(xué)品；二是在集成電路的制造過程中的蝕刻功效。

超高純電子級磷酸及高選擇性蝕刻液是芯片制造行業(yè)不可替代的微電子半導(dǎo)體芯片制造和關(guān)鍵電子化學(xué)品，例如晶圓減薄液、晶圓制絨液、多晶硅蝕刻液、電子級蝕刻液等關(guān)鍵技術(shù)目前已突破了美日韓等少數(shù)國家化工企業(yè)長期壟斷和技術(shù)封鎖，為我國芯片制造產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展創(chuàng)造了良好條件。在過濾半導(dǎo)體制造用的刻蝕液、剝離液以及液晶電視用的液晶原料時，對濾芯的耐藥品性及溶出物的要求非常嚴(yán)格。聚丙烯等通用樹脂不可使用，只能使用耐藥性及耐溶出性優(yōu)良的氟樹脂。通過使用特殊的洗凈方法開發(fā)出的全氟濾芯，對過濾介質(zhì)要求嚴(yán)格的電子信息材料用藥液等過濾特別適用。由于經(jīng)過特殊洗凈，無化學(xué)污染。全氟折疊濾芯過濾原液殘留少，特別適合價格昂貴的蝕刻液體過濾。

制作IC時，可以簡單分為4個步驟，金屬濺鍍、涂布光阻、蝕刻技術(shù)、光阻去除，其中過濾和分離是生產(chǎn)半導(dǎo)體，加工化學(xué)品和藥品的行業(yè)，或控制氣體或液體的系統(tǒng)的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。

其中全氟折疊濾芯是采用聚四氟乙烯拉伸膜、PFA骨架制造，具有高通量、高流速、長壽命，以及極其優(yōu)良的化學(xué)相容性和耐氧化性能等特點。這種濾芯廣泛應(yīng)用于化學(xué)品過濾中各種酸、堿、有機(jī)溶劑等化學(xué)品的過濾，能夠滿足大多數(shù)惡劣環(huán)境下的過濾需求。例如，半導(dǎo)體制造工藝中的高溫、強(qiáng)腐蝕性的化學(xué)品過濾，化學(xué)品過濾中各種酸、堿、有機(jī)溶劑等化學(xué)品的過濾，蝕刻、清洗、光刻膠、顯影液等以及其他的強(qiáng)氧化性液體的過濾關(guān)鍵材料。

為了提高過濾器的精度，過濾產(chǎn)品供應(yīng)商需要獲得較小的孔徑，多采用增加濾材密度的方式，高密度的過濾介質(zhì)在工作中，過濾介質(zhì)就會有較大的壓差，降低流速，這樣過濾性能就會受到影響，所以理想的過濾介質(zhì)需要承受高密度，高壓、高流速，如大連義邦Dexmet氟聚合物延展過濾介質(zhì)已在歐洲全氟折疊濾芯廠家PallX和Paker成熟應(yīng)用多年，延展網(wǎng)由定制的精密模具沿著一個方向撕裂、拉伸，然后材料經(jīng)過滾軸被加工到最終的厚度，是全球位數(shù)不多可以穩(wěn)定生產(chǎn)高純度PFA和PTFE網(wǎng)的廠家之一。

PFA和PTFE材料耐高溫，耐強(qiáng)酸、強(qiáng)堿腐蝕，另外對比編織網(wǎng)，延展網(wǎng)結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，在超高純電子級磷酸及高選擇性蝕刻液環(huán)境中，作為全氟濾芯的支撐層，可以輔助濾膜，起到一個很好的支撐效果，是全氟折疊濾芯的支撐層理想材料之一。芯片制造的難，就是難在不斷地向物理極限發(fā)起挑戰(zhàn)，在芯片研發(fā)與制造過程中，新的工藝和材料永遠(yuǎn)在顛覆著我們的認(rèn)知，我們要做的，就是不斷地挑戰(zhàn)微觀控制的極限。

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